平版印刷:时而

先进的光刻技术是在芯片上打印超精细特征所需的技术，是现代技术进步的主要推动力。有许多不同的光刻技术，其中EUV被认为是引领世界最先进芯片的现代领跑者。

美国对企业可以向一些中国实体提供的技术施加了限制，包括荷兰公司ASML生产的用于进行EUV光刻的设备。这样做，美国(以及支持它的西方国家)希望显著阻碍中国获得最先进半导体技术的能力。

实际上，这些限制引发了创新——在半导体发展中总是如此——中国的中芯国际(SMIC)在没有EUV的情况下悄然实现了7nm制程。

在电子书《光刻技术:技术独立和进步的守门人》中，TechInsights的Sinjin Dixon-Warren研究了目前正在使用或正在大量研究和开发的关键光刻技术。该电子书包括对光刻设备和技术的专利持有的讨论，并进一步评论了中国对EUV限制的反应。

下载电子书，了解光刻技术的历史和未来，主要厂商的专利持有情况，以及中国如何实现7nm。